用于样品制备和分析的自动化系统的系统布局
2020-01-10

用于样品制备和分析的自动化系统的系统布局

本发明公开了样品制备和分析系统(10)。所述系统(10)包括壳体(16)以及位于壳体(16)内的样品制备站(12)和样品分析站(14)。样品分析站(14)间隔远离样品制备站(12)。传送组件(50)配置成使得至少一个样品在壳体(16)内且在样品制备站(12)和样品分析站(14)之间移动。

如果在辅助处理站72中包括基质干扰去除站,则基质干扰去除站可以在线或离线配置(例如,在线配置是其中样品经由流路连接而不是被包含在器皿44内而在样品制备站20的一个或多个站之间移动的配置,而离线配置是其中样品在器皿44内在样品制备站20的站之间传送的配置)的任一种并入。在包括在线基质干扰去除站的实施方案中,包含分析物的所制备样品可诸如通过管线直接从基体干扰去除站流动到下一站。该辅助站例如可包括辅助基质干扰去除站(未示出)。在包括离线基质干扰去除站的实施方案中,包含分析物的所制备样品如果不是已经包含在器皿44内的话则从基质干扰去除站收集并放置到器皿58内。

类似于图1A,图1B是示出自动化的样品制备和分析系统10'的透视图,其中具有撇^"的相似数字指代相似特征。

在样品通过辅助处理站72之后,所制备的样品经由传送组件50传送到分析分级站78。分析分级站78包括用于分别接纳器皿44或器皿架56的两个或更多个器皿位置82(图2A)或两个或更多个器皿架位置82'(图2B)。每个器皿位置82在分析分级站78内可以是固定的,这样一旦单个器皿44被放置在分析分级站78的器皿位置82内时,在由传送组件50转移的时候其位置不会改变。

仍参照图5,每个LC通道114、116还可与至少一个栗124和至少一个阀126相关联来控制通过样品分析站24的移动相和所制备样品的流动。

污染风险例如包括振动、热、电、液体,和对于所包含的部件和/或自动临床仪器常见的其他污染来源。通过包括适于样品制备站12和样品分析站14每一个的通风系统以便控制流动通过站12、14的空气流和调节由所述站12、14产生的预期热量可以进一步减少污染。以类似的方式,试剂的存储区域、样本的存储区域和样品的存储区域可包括单独的制冷系统,以保持那些部分处于较低的相对温度下。

本领域内的普通技术人员将容易理解将离心分离器76连同系统10的分析仪器并入到一体式的壳体内可能会导致对这些分析仪器带来不希望的干扰。在该一体式构造的实例中,以特定可靠性来使用分析仪器的能力会受到影响。这可能至少部分地是由于为了将从上层清液析出固体所需的高转速。因此,对包括集成的离心分离器76的系统10的实施方案而言,有必要进一步包括减小将其振动传递到系统10其他部件的特征。此外,由于希望减少系统10的整体占用空间,离心分离器76的整体尺寸可被减小和/或配置成不与系统10的其他部件集成的单独的离心分离器76,但仍可由传送组件50通达。

本发明大致涉及样品制备和分析的领域,更具体地涉及用于布置样品制备和分析仪器的系统和布局。

图2A是图1A所示的自动化的样品制备和分析系统的顶视图。